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相对湿度越高,粘附的难去掉,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。现在我们的净化工程已经在朝着节能的方向发展了,除了人士以外,其他人很少知道净化工程的耗能量---大,时候普通写字楼的20倍,比美国更发达高出了15%。看到这些令人心惊的数字,我们的科学家们从节能的角度出发从---上出出发,实验室净化工程,设计出能够节省的相关设备。1000级 一般只对尘埃浓度做要求,用于光学器件,仪器等高精仪器等
10000级,医院净化工程,用于液压设备的生产,和一些食品饮料的生产。
100000级,这个级别比较的低,对净化度要求不是---,主要在印刷厂,包装厂等。
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